뭐 3D 트랜지스터 어쩌구 하며
인텔에서 연구하고 발표했던 기술말인데
듣기로는 연구 개발은 인텔이 먼저 끝내고 발표했는데
정작 중요한 특허를 마찬가지로 연구하고 있던 서울대가 선점하는 바람에 서울대 소유라고 들은 거 같은데...
어떻게 된건가요?
흔히 인텔에 의해 tri-gate 로 알려진 fin-fet 기술은 1980년대(90년대?) 즈음에 캘리포니아대-버클리대 합동 연구로 처음 제시된걸로 알고 있습니다.
기본 개념은 반도체의 집적도가 높아짐에따라, mosfet의 gate와 channel이 만나는 영역이 좁아져서 성능이 나빠지기 때문에, gate를 생선지느러미(fin)처럼 길게 만들어서 channel과의 접합 면적을 넓히는 것입니다.
하지만 gate를 입체적으로 길게 만드는것이 어려워서 얼마전까지만해도 이론으로만 생각되어 왔는데, 기술의 발달로 여러가지 해결책 및 응용이 나왔습니다.
최초로는 도시바 IBM AMD 의 합동으로 fin-fet을 이용하여 sram 의 셀을 구현하였고, 여러 대학에서도 제작 및 응용가능한 구조들을 많이 제안하였습니다.
그 응용 구조로 인텔의 tri-gate가 가장 유명한데, 공교롭게도 서울대와 인텔이 거의 동시에 이름은 다르지만 같은 구조를 제안하였고 조금 앞서 기술을 발표한 서울대가 특허권을 가졌습니다.
하지만 이 기술을 국내 기업들은 상업성이 없다고 외면하였고, 결국 외국의 특허 괴물 기업이 특허권을 사갔다고 합니다.
특허권을 가지고 있었으면 어마어마한 금액의 로얄티를 받았을텐데 아쉬운 부분입니다.ㅜㅜ
하지만 fin-fet을 구현할수 있는 방법이 인텔의 tri-gate 구조만 있는것이 아니기 때문에,
삼성이나 다른 반도체 업체에서도 차세대 반도체는 fin-fet 기술을 이용하여 더 성능좋은 반도체를 만들수 있을겁니다.
새 창으로
선택한 기호
흔히 인텔에 의해 tri-gate 로 알려진 fin-fet 기술은 1980년대(90년대?) 즈음에 캘리포니아대-버클리대 합동 연구로 처음 제시된걸로 알고 있습니다.
기본 개념은 반도체의 집적도가 높아짐에따라, mosfet의 gate와 channel이 만나는 영역이 좁아져서 성능이 나빠지기 때문에, gate를 생선지느러미(fin)처럼 길게 만들어서 channel과의 접합 면적을 넓히는 것입니다.
하지만 gate를 입체적으로 길게 만드는것이 어려워서 얼마전까지만해도 이론으로만 생각되어 왔는데, 기술의 발달로 여러가지 해결책 및 응용이 나왔습니다.
최초로는 도시바 IBM AMD 의 합동으로 fin-fet을 이용하여 sram 의 셀을 구현하였고, 여러 대학에서도 제작 및 응용가능한 구조들을 많이 제안하였습니다.
그 응용 구조로 인텔의 tri-gate가 가장 유명한데, 공교롭게도 서울대와 인텔이 거의 동시에 이름은 다르지만 같은 구조를 제안하였고 조금 앞서 기술을 발표한 서울대가 특허권을 가졌습니다.
하지만 이 기술을 국내 기업들은 상업성이 없다고 외면하였고, 결국 외국의 특허 괴물 기업이 특허권을 사갔다고 합니다.
특허권을 가지고 있었으면 어마어마한 금액의 로얄티를 받았을텐데 아쉬운 부분입니다.ㅜㅜ
하지만 fin-fet을 구현할수 있는 방법이 인텔의 tri-gate 구조만 있는것이 아니기 때문에,
삼성이나 다른 반도체 업체에서도 차세대 반도체는 fin-fet 기술을 이용하여 더 성능좋은 반도체를 만들수 있을겁니다.